- Артикул:00-01032333
- Автор: Данилин Б.С.
- Обложка: Мягкая обложка
- Издательство: Машиностроение (все книги издательства)
- Город: Москва
- Страниц: 72
- Формат: 60 х 84 1/16
- Год: 1987
- Вес: 84 г
Развернуть ▼
В брошюре кратко рассмотрены вакуумные процессы в химически активной среде (плазмохимическое осаждение пленок при пониженном давлении и вакуумно-плазменное травление микроструктур). Дан анализ влияния различных факторов на параметры процессов осаждения и травления. Сформулированы требования к вакуумным насосам, используемым для откачки химически активных газов; рассмотрены и сопоставлены основные виды насосов.
Содержание
Введение
1.Плазмохимическое осаждение при пониженном давлении
1.1. Основные принципы метода
1.2. Получаемые материалы и используемые газы
1.3. Типы и конструкции реакторов и установок
1.4. Влияние различных факторов на параметры процесса осаждения
2. Вакуумно-плазменное травление
2.1. Классификация процессов вакуумно-плазменного травления (ВПТ)
2.2. Типы и конструкции установок для ВПТ
2.3. Влияние различных факторов на параметры процесса травления
2.4. Поддержание требуемого состава рабочего газа
2.5. Повышение коэффициента использования рабочего газа и ресурса работы откачных средств
3. Откачные средства
3.1. Требования к откачным средствам
3.2. Механические насосы с масляным уплотнением
3.3. Двухроторные вакуумные насосы (ДВН)
3.4. Диффузионные паромасляные насосы
3.5. Турбо молекулярные насосы (ТМН)
3.6. Крионасосы
3.7. Откачные системы
3.8. Специфические свойства рабочих газов
Заключение
Вопросы для самопроверки
Список литературы
Рекомендуем
